Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 55 mm
Ocena:
0
0
Kod produktu w sklepie:
SB8645
Producent:
K&F Concept
Cena:
towar niedostępny
Dostępność:
Dostępny
Dostępny
Wysyłamy:
od 1 do 3 dni roboczych
Opis
Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 55 mm
K&F Concept CPL NANO-X Ultra-low Reflection 55 mm to zaawansowany filtr do obiektywu, który redukuje odbicia z powierzchni błyszczących, wykorzystując wielowarstwowe powłoki Ultra Low Reflection na japońskim szkle. Ten profesjonalny filtr polaryzacyjny stanowi niezastąpiony element wyposażenia, ułatwiając tworzenie nastrojowych i technicznie poprawnych fotografii plenerowych.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 55 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 5,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - HD; Filtr uwydatnia kontrast zdjęć i nasycenie kolorów. Niweluje refleksy światła z powierzchni szklanych oraz metalicznych. Zapobiega uszkodzeniom i zanieczyszczeniom soczewki obiektywu. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8645 |
| Kod producenta (EAN) | 6942052515818 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |
Koszty dostawy
Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności
Kraj wysyłki:
Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.