Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 72 mm
Ocena:
0
0
Kod produktu w sklepie:
SB8555
Producent:
K&F Concept
Cena:
towar niedostępny
Dostępność:
Dostępny
Dostępny
Wysyłamy:
od 1 do 3 dni roboczych
Opis
Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 72 mm
K&F UV NANO-X 72 mm to zaawansowany technologicznie filtr do aparatu, który dzięki japońskiej optyce chroni obiektyw przed uszkodzeniami mechanicznymi bez utraty ostrości. Zastosowanie technologii Ultra-low Reflection sprawia, że te filtry na obiektyw są niemal niewidoczne dla sensora aparatu.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 72 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 3,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - Ultra HD; Redukcja odblasków i poprawa jakości zdjęć; Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS; Powłoki ułatwiające czyszczenie. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8555 |
| Kod producenta (EAN) | 5904647821965 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |
Koszty dostawy
Cena nie zawiera ewentualnych kosztów płatności
Kraj wysyłki:
Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.