Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 46 mm
0
towar niedostępny
Dostępny
Opis
Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 46 mm
K&F UV NANO-X 46 mm eliminuje zamglenia wywołane promieniami UV, co bezpośrednio poprawia jakość i nasycenie każdego zdjęcia z filtrem. Jako wysokiej jakości filtr na obiektyw, produkt ten wykorzystuje japońskie szkło optyczne dla zapewnienia bezkompromisowej transmisji światła.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 46 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 3,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - Ultra HD; Redukcja odblasków i poprawa jakości zdjęć; Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS; Powłoki ułatwiające czyszczenie. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8549 |
| Kod producenta (EAN) | 5904647821903 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |






Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.