Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 43 mm
0
towar niedostępny
Dostępny
Opis
Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 43 mm
K&F Concept CPL NANO-X Ultra-low Reflection 43 mm to filtr do obiektywu oferujący bezkompromisową jakość obrazu dzięki zastosowaniu utwardzanego szkła z Japonii oraz powłok antyrefleksyjnych. Jako profesjonalny filtr do zdjęć, produkt ten zapewnia pełną kontrolę nad polaryzacją światła, eliminując niechciane refleksy z tafli wody czy szkła.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 43 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 5,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - HD; Filtr uwydatnia kontrast zdjęć i nasycenie kolorów. Niweluje refleksy światła z powierzchni szklanych oraz metalicznych. Zapobiega uszkodzeniom i zanieczyszczeniom soczewki obiektywu. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8641 |
| Kod producenta (EAN) | 6942052515771 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |






Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.