Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 43 mm
Ocena:
0
0
Kod produktu w sklepie:
SB8548
Producent:
K&F Concept
Cena:
towar niedostępny
Dostępność:
Tymczasowo niedostępny
Tymczasowo niedostępny
Opis
Filtr K&F Concept NANO-X MRC UV Ultra Low Reflection 43 mm
K&F UV NANO-X 43 mm łączy w sobie cechy, jakie posiadają najlepsze filtry fotograficzne, oferując krystaliczną przejrzystość i odporność na zarysowania. Stosowanie tego filtra UV z japońskiego szkła gwarantuje brak negatywnego wpływu na balans bieli przy jednoczesnym wzmocnieniu ochrony optyki.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 43 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 3,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - Ultra HD; Redukcja odblasków i poprawa jakości zdjęć; Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS; Powłoki ułatwiające czyszczenie. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8548 |
| Kod producenta (EAN) | 5904647821897 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |
Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.