Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 52 mm
0
towar niedostępny
Dostępny
Opis
Filtr polaryzacyjny K&F Concept NANO-X CPL Ultra Low Reflection 52 mm
K&F Concept CPL NANO-X Ultra-low Reflection 52 mm to wysokiej jakości filtr polaryzacyjny, który dzięki ultracienkiej ramce nie powoduje winietowania na obiektywach szerokokątnych. Japońskie szkło optyczne oraz zaawansowane powłoki sprawiają, że każdy filtr do aparatu z tej serii gwarantuje najwyższą transmisję światła i naturalne kolory.
Specyfikacja
| Średnica filtra | 52 mm |
| Materiał | Pierścień - aluminium, ramka typu SLIM o grubości 5,3 mm; Szkło - japońskie szkło optyczne, dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką. |
| Odporność | Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. |
| Dodatkowe informacje | Technologia powlekania tytanem; Rozdzielczość optyczna - HD; Filtr uwydatnia kontrast zdjęć i nasycenie kolorów. Niweluje refleksy światła z powierzchni szklanych oraz metalicznych. Zapobiega uszkodzeniom i zanieczyszczeniom soczewki obiektywu. |
| Akcesoria dodatkowe | Pudełko ochronne na filtr. |
| Kod sklepu (SKU) | SB8643 |
| Kod producenta (EAN) | 6942052515801 |
| Gwarancja | 24 miesiące (gwarancja producenta) |






Dodanie opinii nie wymaga rejestracji w sklepie internetowym AB Foto. Nie weryfikujemy, czy opinie pochodzą od klientów, którzy kupili dany produkt. Opinie są moderowane.